리소그래피
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작성일 19-07-10 22:23본문
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1) EUV 리소 그래피
2) E-Beam 리소그래피 (전자빔 리소그래피)
2) E-Beam 리소그래피 (전자빔 리소그래피)
⇒E-Beam 리소그래피는 전자빔을 substrate에 주사하여 패터닝을 하는 방식이다.EUV 리소 그래피와 전자빔 라소그래피에 대해 조사한 자료(資料)입니다. 컴퓨터를 통해서 설계된 디자인을 전자빔이 기판 위에 직접 옮기는 방식이므로 광파를 제어하는 광자격자 구조를 만드는데 결정적으로 유리한 특징을 가지고 있다
EUV방식보다 더 미세한 패터닝을 할 수 있는 advantage(장점) 이 있지만 아직 양산에 어려움이 있고, 비용도 만만치 않은 단점이 있다
advantage(장점) 과 단점을 자세히 살펴보면 우선 전자빔을 직접 제어하고 CAD 호로그램을 이용하여 패턴 모양을 임의적으로 쓰거나 수정할 수 있다는 advantage(장점) 이 있다 별도의 마스크 제작을 위한 추가 비용이 없으며 높은 해상도를 얻을 수 있다 전자빔의 에너지가 100keV일 경우, 전자의 파장은 3.7pm이므로 보통의 NA(Numerical Aperture)를 가정할 경우,해상도는 이론(理論)적으로 4nm까지 …(생략(省略))
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EUV 리소 그래피와 전자빔 라소그래피에 대해 조사한 자료입니다.