포토리소[photolithography] - 가공방법 및 적용분야에 대상으로하여
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작성일 20-12-02 17:05본문
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포토리소(Photolithography)
가공방법 및 적용분야에 대하여
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1. 개요
1.1 포토리소그래피(Photolithography)란?
원하는 회로설계를 유리판 위에 금속패턴으로 만들어 놓은
마스크(mask)라는 원판에 빛을 쬐어 생기는 그림자를
웨이퍼 상에 전사시켜 복사하는 기술
Fig. 1. The basic concept of Photolithography.
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1.2 포토리소그래피 장비의 기본적 형태
- 광학계에 따른 방식
근접 노광방식(proximity printing)
투영 노광방식(projection printing)
Fig. 2. Schematic diagram of photolithography systems.
<물리학과 첨단기술 January/February 2xxx 특집 page 3>
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2. 공정 과정
포토리소그래피 : Basic Steps in Chip Manufacturing
Fig. 3.
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2.1 Silicon with Oxide Layer
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Coater 제조회사
-TEL(83%)
-Dainippon(8%)
-ASML(4%)
KCTEC
Spinless Coater
PR사용량 1/10
Fig. 4 Coater
EUVL Symposium, J. Yeo (2009).
2.1 Silicon with Oxide Layer - Coater
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2.2 Expose Photoresist
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Fig. 5 Scaner
Hankook Industry co., LTD
2.2 Expose Photoresist - Sc…(skip)
레포트/기타
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